[发明专利]对作用于基底上的压力的测量方法有效
| 申请号： | 201711148498.6 | 申请日： | 2017-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN109794855B | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 蔡长益 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B49/16 | 分类号： | B24B49/16;B24B37/34;B24B37/005;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种对作用于基底上的压力的测量方法，提供一基底，在基底上设置一压力感测器以及一信号接收器，采用一压力装置作用于基底上，向基底施加压力，压力感测器感测基底受到的压力并获得相应的压力数据，信号接收器接收压力数据并传输至一终端设备，终端设备根据压力数据得到基底上的压力分布，通过压力分布调整压力装置向基底施加的压力，从而改善向基底施加的压力的均匀度，通过该方法可以改善化学机械研磨的均匀度，并避免由此产生缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基底 压力 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种对作用于基底上的压力的测量方法，其特征在于，包括：提供一基底，在所述基底上设置一压力感测器以及一信号接收器；采用一压力装置作用于所述基底上，向所述基底施加压力，所述压力感测器感测所述基底受到的压力并获得相应的压力数据；以及所述信号接收器接收所述压力数据并传输至一终端设备，所述终端设备根据所述压力数据得到所述基底上的压力分布，通过所述压力分布调整所述压力装置向所述基底施加的压力。
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