[发明专利]一种低反射、高透光玻璃及其镀膜工艺

摘要

本发明属于材料制备技术领域，具体涉及一种低反射、高透光玻璃及其镀膜工艺；本发明提出的一种低反射、高透光玻璃及其镀膜工艺包括以下步骤清洗、镀膜等工艺，其制备的镀膜玻璃能够很好的改善玻璃反光、低透光率、成本高等问题，其镀膜玻璃可以大量运用到军事、国防等领域。

主权项

一种低反射、高透光玻璃及其镀膜工艺，其特征在于：所述的一种低反射、高透光玻璃及其镀膜工艺包括以下步骤：(1)在开始镀膜制备时，将个工作平台彻底清洁干净，保证无任何可视杂物；(2)打开冷却循环水泵，保证仪器的工作温度处于恒定状态；(3)在清洗槽中放入各种清洗液，然后将大小尺寸相同的透明硅基玻璃放入清洗槽中进行进行，并利用超声波进行超声清洗；(4)然后将清洗干净的玻璃运输到真空清洗室中进行进一步的清洗，其清洗过程使用的水为去离子水，和特种清洁剂进行清洗，并且利用超声进行超声清洗；(5)将清洗干净的玻璃运输到真空干燥箱中进行干燥；(6)在真空镀膜室中的坩埚中放入，要镀膜的镀膜物质，然后开启机械抽气泵，5‑8min后打开低真空控制阀门，将烘干的玻璃运输到真空镀膜室中进行镀膜，将玻璃固定在镀膜架上，然后调节防护罩，使其防护罩住镀膜架上的玻璃，然后待抽空15‑30min后打开热偶加热管，然后观察真空室压强，当真空室的压强降低到0.0002‑0.0005Pa时，打开电磁阀开关及扩散泵，1‑1.5min后，观察温度是否升高到设定值，如果升高后，关闭低真空阀.开启高真空阀，5‑10min后开启规管，当真空镀膜空间内压强达到0.00004‑0.00008Pa时维持此压强调节，然后进行镀膜，将待镀膜玻璃进行加热，调试稳压器和热电偶，使基片烘烤温度达120‑150℃的温度，然后，缓慢调节灯丝电压和灯丝电流，然后逐渐增加加速极管电压至8‑12KV，其增速在10‑20V/S的速度进行增加，在此期间通过目视镜观察坩埚里面的物料的状态变化情况，当看到坩埚内物质完全融化，且有蒸气产生，开大抽真空系统，进行继续抽真空，提高系统的真空度，保持其真空压强在0.00004‑0.00008Pa，5‑10min后，打开防护罩，使坩埚里面的蒸汽接触到被镀膜的玻璃板，按照所需镀膜的厚度决定镀膜时间；(7)达到镀膜的厚度后，将镀膜好的玻璃板，运输到真空冷却室中进行冷却，而真空镀膜间中又开始镀膜下一批次的玻璃板，带镀膜好的玻璃板冷却至室温时，然后进行面涂，然后待面涂干燥后采用水染着色，对处理后的产品进行包装，然后进行储存，此产品就是低反射、高透光玻璃。