[发明专利]载置台和等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种载置台和具有该载置台的等离子体处理装置。该载置台包括：被施加高频电力的基座；被施加高频电力的基座；设置在基座上，具有用于载置被处理体的载置区域和包围载置区域的外周区域的静电卡盘；设置在载置区域的内部的加热器；与加热器连接并延伸至外周区域的内部的配线层；在外周区域与配线层的接点部连接的供电端子；和导电层，其设置在外周区域的内部或者设置在位于外周区域之外的厚度方向上的其它区域，从外周区域的厚度方向看时与供电端子重叠。由此，能够提高沿着被处理体的周向的电场强度的均匀性。

主权项

1.一种载置台，其特征在于，具有：被施加高频电力的基座；静电卡盘，其设置在所述基座上，具有用于载置被处理体的载置区域和包围所述载置区域的外周区域；设置在所述载置区域的内部的加热器；与所述加热器连接并延伸至所述外周区域的内部的配线层；在所述外周区域与所述配线层的接点部连接的供电端子；和导电层，其设置在所述外周区域的内部或者设置在位于所述外周区域之外的所述外周区域的厚度方向上的其它区域，从所述外周区域的厚度方向看时与所述供电端子重叠。