[发明专利]用来制造具有整体窗口的化学机械平面化(CMP)抛光垫的方法在审
申请号: | 201711179988.2 | 申请日: | 2017-11-23 |
公开(公告)号: | CN108202436A | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | A·P·史密斯;J·J·亨德伦;J·R·斯塔克;J·B·米勒 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
主分类号: | B29C39/10 | 分类号: | B29C39/10;B29C39/12;B24B37/24;B29K75/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋;胡嘉倩 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了制造化学机械平面化(CMP)抛光层或抛光垫的方法,其包含:提供敞口模具,其具有带有会产生平的或成形的CMP抛光层表面的凹形貌的表面并且具有保持在其上适当位置的一或多个终点检测窗口片;将液体异氰酸酯组分与液体多元醇组分混合,形成无溶剂反应混合物;将所述反应混合物喷射到所述敞口模具上,同时将所述一或多个窗口片保持在适当位置,每个窗口片位于预先确定的位置,接着固化所述反应混合物。 | ||
搜索关键词: | 窗口片 化学机械平面化 敞口模具 适当位置 抛光垫 无溶剂反应混合物 形貌 液体异氰酸酯 抛光层表面 液体多元醇 预先确定 终点检测 组分混合 抛光层 成形 固化 喷射 制造 | ||
【主权项】:
1.一种制造化学机械平面化(CMP)抛光层或抛光垫的方法,包含:提供敞口模具,其具有带有会产生平坦的或成形的CMP抛光层表面的凹形貌的表面,并且具有保持在其上适当位置的一或多个窗口片;将液体异氰酸酯组分与液体多元醇组分混合,形成无溶剂反应混合物;将所述反应混合物喷射到所述敞口模具上,同时将所述一或多个窗口片保持在适当位置,每个窗口片位于预先确定的位置,然后;将所述反应混合物固化,以便由所述反应混合物形成凝胶抛光层,脱模,并将所述凝胶抛光层固化,从而形成聚氨基甲酸酯反应产物作为CMP抛光层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司,未经罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711179988.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。