[发明专利]一种真空设备压强调控系统及真空设备有效
申请号: | 201711183730.X | 申请日: | 2017-11-23 |
公开(公告)号: | CN107675145B | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 彭泽云;胡祥龙;戴煜 | 申请(专利权)人: | 湖南顶立科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 410118 湖南省长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本申请公开了一种真空设备压强调控系统及真空设备,该装置包括真空炉体压强获取管路,抽真空管路和压强调控管路;真空炉体压强获取管路包括与真空炉体相连的第一电磁阀、用于获取真空炉体产品处理室的压强P1的第一薄膜规;与真空炉体相连的第二电磁阀、用于获取真空炉体保温层和产品处理室之间的压强P2的第二薄膜规;抽真空管路用于抽取产品处理室内的尾气;压强调控管路用于向抽真空管路通入第一工艺气体,调节P1和P2之间的压强差,以实现真空炉体产品处理室内外压强差的恒定;包括与第一气动球阀相连的第一隔膜阀、与第一工艺气体的进气口相连的第一质量流量计。本申请实现产品处理室内外压强差的恒定,从而获得质量更高的产品。 | ||
搜索关键词: | 真空炉体 压强 压强调控 真空设备 抽真空管路 产品处理 压强差 恒定 产品处理室 工艺气体 薄膜规 室内外 进气口 第一电磁阀 质量流量计 气动球阀 保温层 电磁阀 隔膜阀 申请 抽取 尾气 室内 | ||
【主权项】:
1.一种真空设备压强调控系统,其特征在于,包括真空炉体压强获取管路,抽真空管路和压强调控管路;其中,所述真空炉体压强获取管路包括:与所述真空炉体相连的第一电磁阀、与所述第一电磁阀相连的,用于获取所述真空炉体产品处理室的压强P1的第一薄膜规、与所述真空炉体相连的第二电磁阀、与所述第二电磁阀相连的,用于获取所述真空炉体保温层和所述产品处理室之间的压强P2的第二薄膜规;所述抽真空管路用于抽取所述产品处理室内的尾气,包括:与所述真空炉体相连的第一气动球阀、与所述第一气动球阀相连的第二气动球阀、与所述第二气动球阀相连的真空波纹管、与所述真空波纹管相连的压差阀、与所述压差阀相连的真空泵;所述压强调控管路用于向所述抽真空管路通入第一工艺气体,调节所述P1和所述P2之间的压强差,以实现所述真空炉体所述产品处理室内外压强差的恒定;包括:与所述第一气动球阀相连的第一隔膜阀、与所述第一隔膜阀相连的第一质量流量计;其中,所述第一质量流量计与第一工艺气体的进气口相连;所述第一电磁阀、所述第二电磁阀包括直动式电磁阀、分布直动式电磁阀或先导式电磁阀;所述第一薄膜规和第二薄膜规包括APR压阻规或CMR薄膜规;所述真空泵包括机械泵,所述第一气动球阀、所述第二气动球阀的球体为浮动球或固定球或弹性球。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的