[发明专利]一种可调式离子源及静电约束聚变反应器在审
| 申请号： | 201711189344.1 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN107946159A | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | 赵鑫;刘敏胜;宋韵洋;杨圆明;陆鹏宇;王汉清 | 申请（专利权）人： | 新奥科技发展有限公司 |
| 主分类号： | H01J27/02 | 分类号： | H01J27/02;G21B1/05 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 065001 河北省廊坊市经济*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可调式离子源及静电约束聚变反应器，涉及等离子体领域，可解决现有技术中当调整离子束照射在样品上的强度或聚焦点位置时需要打开真空腔体而导致耽误时间、影响工艺参数的准确性与一致性的问题。本发明可调式离子源，包括一端开口的壳体，所述壳体内设有离子束产生单元，所述离子束产生单元产生的离子束可由所述开口射出所述壳体，所述壳体包括管状侧壁，所述管状侧壁的至少一段为波纹管，所述壳体包括位于所述波纹管远离所述开口一侧的安装部，所述离子束产生单元安装于所述安装部上。本发明用于提供离子束。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调式 离子源 静电 约束 聚变 反应器 | ||
【主权项】：
一种可调式离子源，包括一端开口的壳体，所述壳体内设有离子束产生单元，所述离子束产生单元产生的离子束可由所述开口射出所述壳体，其特征在于，所述壳体包括管状侧壁，所述管状侧壁的至少一段为波纹管，所述壳体包括位于所述波纹管远离所述开口一侧的安装部，所述离子束产生单元安装于所述安装部上。
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