[发明专利]聚焦环、承载装置及反应腔室有效
| 申请号： | 201711204488.X | 申请日： | 2017-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN109841474B | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 郭士选;苏恒毅 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种聚焦环，套置在用于承载基片的卡盘的外周壁，聚焦环包括由上至下依次叠置的上环部、中环部和下环部；中环部的内壁垂直下环部的上表面，且下环部的内径小于中环部的内径，以使基片的底部边缘能够放置于下环部相对中环部内壁凸出的上表面上；上环部的内壁与上环部的下表面之间的夹角为锐角，以使基片上表面上方电场的等位线趋于平直；上环部的上表面高于基片的上表面，二者的高度差为第一距离。本发明还提供一种承载装置和反应腔室，可以同时解决基片的环形边缘区域的刻蚀速率高和刻蚀角度差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 承载 装置 反应 | ||
【主权项】：
1.一种聚焦环，套置在用于承载基片的卡盘的外周壁，其特征在于，所述聚焦环包括由上至下依次叠置的上环部、中环部和下环部；所述中环部的内壁垂直所述下环部的上表面，且所述下环部的内径小于所述中环部的内径，以使所述基片的底部边缘能够放置于所述下环部相对所述中环部内壁凸出的上表面上；所述上环部的内壁与所述上环部的下表面之间的夹角为锐角，以使所述基片上表面上方电场的等位线趋于平直；所述上环部的上表面高于所述基片的上表面，二者的高度差为第一距离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711204488.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有可调整光束能散度的透射带电粒子显微镜
- 下一篇：预处理方法及晶片处理方法
