[发明专利]一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法在审
申请号: | 201711213080.9 | 申请日: | 2017-11-28 |
公开(公告)号: | CN108002711A | 公开(公告)日: | 2018-05-08 |
发明(设计)人: | 熊建;宋宇;黄家鸿;江维 | 申请(专利权)人: | 咸宁南玻节能玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 437100 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: |
本发明提供了一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法,属于磁控溅射镀膜技术领域。该技术在双银膜层结构的基础上,通过膜层优化设计及新材料的引入,提高了膜层的透过率及耐氧化性能。一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片层G和镀膜层,镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十三个膜层,其中第一层为SiN |
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搜索关键词: | 一种 透过 中性 色双银低 辐射 镀膜 玻璃 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高透过中性色双银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片层G和镀膜层,所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十三个膜层,其中第一层(1)为SiNx 层,第二层(2)为ZnSnO层,第三层(3)为ZnO层,第四层(4)为Ag层,第五层(5)为NiCr层,第六层(6)为Tix Siy Nz 层,第七层(7)为SiNx 层,第八层(8)为ZnSnO层,第九层(9)为ZnO层,第十层(10)为Ag层,第十一层(11)为NiCr层,第十二层(12)为Tix Siy Nz 层,第十三层(13)为SiNx 层;所述基片G层为透光率可达90%以上的高透玻璃。所述第一层(1)、第二层(2)、第三层(3)为第一电介质组合层,第四层(4)为低辐射功能层,第五层(5)为第一阻挡保护层,第六层(6)为钛掺杂微晶保护层,第七层(7)、第八层(8)、第九层(9)为第二电介质组合层,第十层(10)为低辐射功能层,第十一层(11)为第二阻挡保护层,第十二层(12)为钛掺杂微晶保护层,第十三层(13)为第三电介质层。
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