[发明专利]用于可流动式CVD的双远程等离子体源的集成

摘要

公开了用于可流动式CVD的双远程等离子体源的集成。本文中描述的实现方式总体涉及一种用于形成可流动膜的设备。在一个实现方式中，设备是包括第一RPS和第二RPS的处理腔室，第一RPS被耦接到处理腔室的盖，第二RPS被耦接到处理腔室的侧壁。第一RPS用于将沉积自由基传递到处理腔室中的处理区域中，并且第二RPS用于将清洁自由基传递到处理区域中。处理腔室还包括自由基传递环，所述自由基传递环设置在喷头与基板支撑件之间，用于将清洁自由基从第二RPS传递到处理区域中。具有用于沉积和清洁的单独RPS以及使用单独传递通道将自由基从所述RPS引入到处理区域中使RPS上的交叉污染和循环变化最小化，从而导致改进的沉积速率漂移和颗粒性能。

主权项

一种环，包括：外部部分；内部部分，其中环形通道形成在所述外部部分与所述内部部分之间，其中多个通道形成在所述内部部分中，并且所述多个通道相对于所述环的中心轴线不对称地设置；上部部分，所述上部部分将所述外部部分和所述内部部分连接；以及下部部分，所述下部部分将所述外部部分和所述内部部分连接。