[发明专利]硅片湿刻装置

摘要

本发明公开了一种能够对湿刻工艺过程中化学试剂实现自动添加的硅片湿刻装置。该硅片湿刻装置，包括储水箱、HF储存箱、HNO3储存箱以及沿硅片输送方向依次布置的去PSG槽、刻蚀槽、第一清洗槽、碱洗槽、酸中和槽、第二清洗槽、酸洗槽、第三清洗槽；所述储水箱分别与刻蚀槽、第一清洗槽以及第二清洗槽通过带流量计的电磁阀连通；所述HF储存箱分别与去PSG槽、刻蚀槽通过带流量计的电磁阀连通；所述HNO3储存箱分别与刻蚀槽、酸洗槽通过带流量计的电磁阀连通。采用该硅片湿刻装置能够实现对应工艺槽内相应液体化学试剂的自动添加，并且保证添加的计量，保证工艺槽内相应溶液的配比。

主权项

硅片湿刻装置，其特征在于：包括储水箱(300)、HF储存箱(200)、HNO3储存箱(400)以及沿硅片输送方向依次布置的去PSG槽(100)、刻蚀槽(101)、第一清洗槽(102)、碱洗槽(103)、酸中和槽(104)、第二清洗槽(105)、酸洗槽(106)、第三清洗槽(107)；所述储水箱(300)分别与刻蚀槽(101)、第一清洗槽(102)以及第二清洗槽(105)通过带流量计的电磁阀(500)连通；所述HF储存箱(200)分别与去PSG槽(100)、刻蚀槽(101)通过带流量计的电磁阀(500)连通；所述HNO3储存箱(400)分别与刻蚀槽(101)、酸洗槽(106)通过带流量计的电磁阀(500)连通。