[发明专利]一种硅片的滑道检测方法及装置有效

专利信息
申请号: 201711226665.4 申请日: 2017-11-29
公开(公告)号: CN108010020B 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 李阳;周璐;李铭 申请(专利权)人: 浙江华睿科技有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T7/60
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 310053 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种硅片的滑道检测方法及装置,所述方法包括:基于霍夫变换确定硅片区域中的每条第一直线段;确定第一直线段上每个第二像素点对应的线外点;根据每个第二像素点和对应的线外点在硅片图像中的灰度值,确定该第一直线段的平均内外灰度差;根据目标直线段的平均内外灰度差,确定目标直线段的滑道参数值,判断滑道参数值是否大于预设的阈值,如果是,确定该目标直线段为滑道。由于在本发明实施例中,根据目标直线段的平均内外灰度差确定目标直线段的滑道参数值,进而进行滑道的检测,能够减小复杂背景纹理对确定滑道的干扰,并且在低对比度情况下,能够准确的检测出滑道。
搜索关键词: 一种 硅片 滑道 检测 方法 装置
【主权项】:
1.一种硅片的滑道检测方法,其特征在于,所述方法包括:在硅片图像中的硅片区域中,将灰度值大于预设灰度阈值的像素点确定为第一像素点;基于霍夫变换和所述第一像素点,确定所述硅片区域中的每条第一直线段;针对每条第一直线段,确定该第一直线段上每个第二像素点的梯度方向,针对所述每个第二像素点,根据该第二像素点的梯度方向,确定位于该梯度方向上的该第二像素点对应的线外点;根据每个第二像素点和对应的线外点在所述硅片图像中的灰度值,确定该第一直线段的平均内外灰度差;确定第一直线段中的目标直线段,根据目标直线段的平均内外灰度差,确定目标直线段的滑道参数值,判断所述滑道参数值是否大于预设的阈值,如果是,确定该目标直线段为滑道。
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