[发明专利]一种AlGaInP发光二极管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201711227890.X 申请日: 2017-11-29
公开(公告)号: CN108010996B 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 杜石磊;李俊承;韩效亚;伏兵;张双翔 申请(专利权)人: 扬州乾照光电有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/30;H01L33/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李婷婷;王宝筠
地址: 225101 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请提供一种AlGaInP发光二极管及其制作方法,所述制作方法为:分别提供第一LED外延结构、第二LED外延结构和第三衬底,其中,第一LED外延结构包括第一型AlInP限制层、AlGaInP多量子阱层、第二型AlInP限制层,第二LED外延结构包括GaP电流扩展层,然后采用键合工艺将第二LED外延结构先与第三衬底键合,再将第一LED外延结构与第二LED外延结构键合,形成完整的发光二极管结构。通过两次键合工艺,避免了在生长较高晶体质量的GaP电流扩展层时,需要高于AlGaInP材料的温度,且耗时较长,造成的第一型掺杂杂质与第二型掺杂杂质向多量子阱层扩散,影响多量子阱的内量子效率。
搜索关键词: 一种 algainp 发光二极管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种AlGaInP发光二极管制作方法,其特征在于,包括:提供第一LED外延结构、第二LED外延结构、第三衬底;其中,所述第一LED外延结构包括:第一GaAs衬底,位于所述第一GaAs衬底上沿背离所述第一GaAs衬底的方向上依次设置的第一缓冲层、第一剥离层、第一型AlInP限制层、AlGaInP多量子阱层、第二型AlInP限制层;所述第二LED外延结构包括:第二GaAs衬底、位于所述第二GaAs衬底上沿背离所述第二GaAs衬底的方向上依次设置的第二缓冲层、第二剥离层、第二型AlInP限制层和GaP电流扩展层;将所述第三衬底与所述GaP电流扩展层键合;去除所述第二剥离层、所述第二缓冲层和所述第二GaAs衬底;将所述第一LED外延结构的第二型AlInP限制层与所述第二LED外延结构第二型AlInP限制层键合;去除所述第一剥离层、所述第一缓冲层和所述第一GaAs衬底。
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