[发明专利]基片处理装置、基片处理方法和存储介质

摘要

本发明提供了基片处理装置、基片处理方法和存储介质。关于滑动部件在基片的背面滑动来进行处理，能够在面内进行均匀性高的处理且将由滑动部件的滑动产生的作用可靠地施加到基片。上述装置构成为包括：为了在基片的背面滑动来进行处理而绕铅直轴自转的滑动部件；和公转机构，其使自转中的该滑动部件绕铅直的公转轴以具有比该滑动部件的直径小的公转半径的方式公转。基片被保持于第一保持部时，滑动部件在所述基片的背面的中央部滑动，上述第一保持部水平地保持与基片的背面的中央部不重叠的区域。基片被保持于第二保持部时，滑动部件在旋转的基片的背面的周缘部滑动，上述第二保持部水平地保持基片的背面的中央部并使之绕铅直轴旋转。

主权项

一种基片处理装置，其特征在于，包括：水平地保持基片的背面中的与中央部不重叠的区域的第一保持部；水平地保持所述基片的背面中的中央部，并且使所述基片绕铅直轴旋转的第二保持部；为了在所述基片的背面滑动来进行处理而绕铅直轴自转的滑动部件；公转机构，其使自转中的所述滑动部件绕铅直的公转轴以比该滑动部件的直径小的公转半径进行公转；和相对移动机构，其用于使所述基片与所述滑动部件的公转轨道的相对位置在水平方向上移动，使得当所述基片被所述第一保持部保持时所述滑动部件在所述基片的背面中央部滑动，当所述基片被所述第二保持部保持时所述滑动部件在进行旋转的所述基片的背面周缘部滑动。