[发明专利]抛光方法和系统在审
| 申请号： | 201711232004.2 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN108000244A | 公开（公告）日： | 2018-05-08 |
| 发明（设计）人： | 樊成;张雷;赵启智 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B29/02;B24B41/04 |
| 代理公司： | 宁波高新区核心力专利代理事务所(普通合伙) 33273 | 代理人： | 袁丽花 |
| 地址： | 215000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种抛光方法和系统，该抛光方法是先在材料表面形成一层比材料本身硬度低的氧化层，然后采用磨粒进行抛光。该抛光系统包括并列设置的等离子枪和气囊抛光工具，等离子枪安装于等离子枪安装板上，等离子枪安装板和气囊抛光工具之间设置有升降气缸，该升降气缸固定于气囊抛光工具上、且与等离子枪安装板之间可相对移动。本发明提供的结合等离子表面改性和气囊抛光的抛光工具及方法，能够有效降低碳化硅硬脆材料表面硬度，降低抛光碳化硅硬脆材料的难度，对平面和自由曲面有良好的贴合度，满足不同条件下的抛光需求，能够达到普通抛光无法达到的表面粗糙度，而且结构相对简单，气密性好，方便设备的安装。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种抛光方法，其特征在于，先在材料表面形成一层比材料本身硬度低的氧化层，然后采用磨粒进行抛光。
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