[发明专利]显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统在审
| 申请号： | 201711234540.6 | 申请日： | 2017-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN108957967A | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 中川俊元 | 申请（专利权）人： | 株式会社平间理化研究所 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王婷 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供最适于将基板的显影所使用的显影液管理为最佳的状态的服务的显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统。基板处理系统中，显影液的浓度管理装置(B)、显影处理装置(A)、调制显影液的新液的调制装置(E)、对使用后的显影液进行再生的再生装置(F)由配管连接。显影液的浓度管理装置(A)测定显影处理装置(B)的显影液的物性或者成分浓度并供给显影液的原液或新液、再生液，从而将显影液管理为最佳的浓度。所供给的补充液由设于配管的累计流量计(151、152、153、154、155)计测。能够基于由累计流量计(151、152、153、154、155)计测出的补充液的累计流量来计算显影液的浓度管理的费用或基板的显影处理费用。 | ||
| 搜索关键词： | 显影液 浓度管理 基板 流量计 显影处理系统 显影处理装置 补充液 配管 新液 基板处理系统 物性 调制装置 累计流量 显影处理 再生装置 再生液 计测 显影 原液 调制 再生 管理 服务 | ||
【主权项】：
1.一种显影液的浓度管理装置，其中，所述显影液的浓度管理装置具备：测定机构，其对与反复使用且显现碱性的显影液的成分浓度具有关联的所述显影液的多个特性值进行测定；运算机构，其基于由所述测定机构测定出的所述多个特性值并利用多变量解析法来计算所述显影液的成分浓度；控制机构，其基于由所述运算机构算出的显影液的成分浓度值，以使所述显影液的成分浓度成为规定的管理值或者规定的管理值以下的方式向所述显影液供给补充液；以及累计流量计，其计测由所述控制机构供给的补充液的累计流量。
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