[发明专利]应变GeCMOS器件在审

专利信息
申请号: 201711243351.5 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN108039349A 公开(公告)日: 2018-05-15
发明(设计)人: 尹晓雪 申请(专利权)人: 西安科锐盛创新科技有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L29/10;H01L29/16
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 黄晶晶
地址: 710065 陕西省西安市高新区高新路86号*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种应变GeCMOS器件,包括:Si衬底;晶化Si1‑xGex外延层,设置于所述Si衬底上;P型Ge沟道层,设置于所述Si1‑xGex外延层上;介质层,设置于所述P型Ge沟道层上;隔离区,设置于所述P型Ge沟道层和所述介质层内部;N阱区,设置于所述隔离区的第一侧,且设置于所述P型Ge沟道层内;PMOS区域,设置于所述隔离区的第一侧;NMOS区域,设置于所述隔离区(104)的第二侧;钝化层,设置于所述介质层上。本发明提供的GeCMOS器件中高Ge组分Si1‑xGex/Si外延层晶体质量高。
搜索关键词: 应变 gecmos 器件
【主权项】:
1.一种应变GeCMOS器件,其特征在于,包括:Si衬底(1011);晶化Si1-xGex外延层(1012),设置于所述Si衬底(1011)上;P型Ge沟道层(102),设置于所述晶化Si1-xGex外延层(1012)上;介质层(103),设置于所述P型Ge沟道层(102)上;隔离区(104),设置于所述P型Ge沟道层(102)和所述介质层(103)内部;N阱区(105),设置于所述隔离区(104)的第一侧,且设置于所述P型Ge沟道层(102)内;PMOS区域(106),设置于所述隔离区(104)的第一侧;NMOS区域(107),设置于所述隔离区(104)的第二侧;钝化层(108),设置于所述介质层(103)上。
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