[发明专利]一种放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷在审
申请号: | 201711244077.3 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN109851366A | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 高明超 | 申请(专利权)人: | 沈阳东青科技有限公司 |
主分类号: | C04B35/58 | 分类号: | C04B35/58;C04B35/65 |
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地址: | 110000 辽宁省沈阳市*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 为了改善粉末合金的硬度、耐磨性,设计了一种放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷。采用Mo粉和Si粉为原料,所制得的放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷,其硬度、致密化程度、抗弯强度都得到大幅提升。其中,MoSi2陶瓷由MoSi2和少量第二相Mo5Si3/Mo4.8Si3C0.6以及SiO2相组成。随烧结温度升高,第二相Mo5Si3/Mo4.8Si3C0.6的含量增多,且发生Mo5Si3向Mo4.8Si3C0.6的相转变。随烧结温度升高,基体组织细化,陶瓷沿晶断裂比例增加,第二相产生一定的强韧化作用。1100℃烧结的MoSi2陶瓷综合性能最佳。本发明能够为制备高性能的MoSi2陶瓷提供一种新的生产工艺。 | ||
搜索关键词: | 陶瓷 放电等离子烧结 原位制备 烧结 第二相 制备高性能 耐磨性 比例增加 粉末合金 基体组织 综合性能 强韧化 致密化 抗弯 细化 生产工艺 断裂 | ||
【主权项】:
1.放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷的制备原料包括:纯度>99.95%,粒径<2μm的Mo粉和纯度>99.99%,粒径<12μm的Si粉。
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