[发明专利]光阑挡片装置、边缘曝光镜头与光刻系统有效
| 申请号： | 201711246209.6 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109856919B | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 任书铭 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种光阑挡片装置、边缘曝光镜头与光刻系统，所述光阑挡片装置，包括：制作于一透明基底的第一偏光层、制作于另一透明基底的第二偏光层、第一电极部、第二电极部与液晶层；所述第一偏光层、所述第一电极部、所述液晶层、所述第二电极部与所述第二偏光层沿目标方向依次间隔设置；所述第一偏光层的偏光方向为第一方向，所述第二偏光层中设有透光区域，所述透光区域的偏光方向为第二方向，所述第二偏光层中其余部分的偏光方向为所述第一方向，所述第一方向与所述第二方向间呈90度；所述第一电极部与所述第二电极部的尺寸和形状，均与所述透光区域的外边缘匹配。本发明起到调制透光区域边缘处的光强的作用，进而通过调制解决半影缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 光阑 装置 边缘 曝光 镜头 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光阑挡片装置，其特征在于，包括：制作于一透明基底的第一偏光层、制作于另一透明基底的第二偏光层、第一电极部、第二电极部与液晶层；所述第一偏光层、所述第一电极部、所述液晶层、所述第二电极部与所述第二偏光层沿目标方向依次间隔设置；所述第一偏光层的偏光方向为第一方向，所述第二偏光层中设有透光区域，所述透光区域的偏光方向为第二方向，所述第二偏光层中其余部分的偏光方向为所述第一方向，所述第一方向与所述第二方向间呈90度；所述第一电极部与所述第二电极部的尺寸和形状，与所述透光区域的至少部分外边缘匹配。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711246209.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：干涉仪气浴装置及光刻机
- 下一篇：防转装置、运动台系统与光刻设备
