[发明专利]负性光刻胶、悬浊液及该悬浊液的配制方法有效
| 申请号： | 201711248827.4 | 申请日： | 2017-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN107870513B | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 马骥;黄巍 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 杨林洁 |
| 地址： | 215124 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种负性光刻胶、悬浊液及该悬浊液的配制方法，所述负性光刻胶包括环化聚异戊二烯、溶剂及光敏剂；所述悬浊液包括负性光刻胶及玻璃粉。所述负性光刻胶或悬浊液中还包括硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂直接添加于所述负性光刻胶中或在悬浊液的配制过程中加入使用。所述硅烷偶联剂为γ‑氨丙基三乙氧基硅烷、γ‑(2,3‑环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ‑（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷的一种或几种。本发明负性光刻胶及悬浊液适用于GPP二极管制造工艺中的硅片腐蚀，其通过硅烷偶联剂同时与负性光刻胶中的环化聚异戊二烯和玻璃粉发生反应，提高玻璃粉的研磨分散效率，延长玻璃粉的沉降时间，提高悬浊液的稳定性，满足生产管理要求，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 悬浊液 配制 方法 | ||
【主权项】：
一种负性光刻胶，其特征在于：所述负性光刻胶包括环化聚异戊二烯、溶剂、光敏剂及硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂为γ‑氨丙基三乙氧基硅烷、γ‑(2,3‑环氧丙氧) 丙基三甲氧基硅烷、γ‑（甲基丙烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷的一种或几种。
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