[发明专利]抗蚀剂剥离液组合物在审
| 申请号： | 201711249993.6 | 申请日： | 2017-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN108693717A | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 高京俊;金圣植;金正铉 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： |
本发明提供一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含化学式1所表示的化合物和有机碱化合物。下述化学式1中，当R1为氢时，R2和R3各自独立地为氢或碳原子数2～4的烷基；当R1为碳原子数1～4的烷基时，R2和R3各自独立地为氢或碳原子数1～4的烷基。本发明通过限制抗蚀剂剥离液组合物中所包含的有机溶剂的分子结构，从而提供有效地剥离光致抗蚀剂，在干式/湿式蚀刻工序中均可使用，并且所使用的抗蚀剂剥离液容易通过剥离设备中的过滤器，明显改善流量变化问题的抗蚀剂剥离液组合物。[化学式1] |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂剥离液 烷基 碳原子数 有机碱化合物 过滤器 光致抗蚀剂 剥离设备 分子结构 流量变化 湿式蚀刻 有机溶剂 有效地 干式 剥离 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含化学式1所表示的化合物和有机碱化合物，化学式1![]()
所述化学式1中，当R1为氢时，R2和R3各自独立地为氢或碳原子数2～4的烷基；当R1为碳原子数1～4的烷基时，R2和R3各自独立地为氢或碳原子数1～4的烷基。
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