[发明专利]真空腔及真空腔的制备方法有效

专利信息
申请号: 201711251569.5 申请日: 2017-12-01
公开(公告)号: CN108015496B 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 高少飞 申请(专利权)人: 北京创昱科技有限公司
主分类号: B23P15/00 分类号: B23P15/00
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 11252 代理人: 周放;姜溯洲
地址: 102299 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种真空腔及真空腔的制备方法,其中真空腔具有支撑件和腔室壁,其中,所述腔室壁上形成有定位面;所述支撑件的底面上形成有凹陷的洁净区,所述底面位于所述定位面上,并且,所述支撑件与所述腔室壁密封连接;在所述支撑件的顶面上形成有第一螺纹孔,所述第一螺纹孔贯通至所述洁净区。本发明的真空腔中,底面与定位面密封连接,没有边缝,不会藏污纳垢,并且底面上具有洁净区,顶面上具有与洁净区贯通的第一螺纹孔,能够顺畅的放气,不会窝气藏气,同时,通过第一螺纹孔可以直接对清洁区进行清洗,从而整体上提高了真空腔内的洁净度,避免零件的污染。
搜索关键词: 空腔 制备 方法
【主权项】:
1.一种真空腔,其特征在于,具有:支撑件(1)和腔室壁(2),其中,所述腔室壁(2)上形成有定位面(9);所述支撑件(1)的底面(4)上形成有凹陷的洁净区(5),所述底面(4)位于所述定位面(9)上,并且,所述支撑件(1)与所述腔室壁(2)密封连接;在所述支撑件(1)的顶面(3)上形成有第一螺纹孔(6),所述第一螺纹孔(6)贯通至所述洁净区(5)。
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