[发明专利]用于扫描电子显微镜中的X射线靶组件在审
申请号: | 201711260936.8 | 申请日: | 2017-12-04 |
公开(公告)号: | CN108155079A | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 王琦;王宗伟;唐兴;孟婕;马小军;顾倩倩;高党忠;姜凯;马文朝 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | H01J37/28 | 分类号: | H01J37/28;H01J37/16;G01N23/2252 |
代理公司: | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 杨长青 |
地址: | 621900*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种用于扫描电子显微镜中的X射线靶组件,涉及扫描电子显微镜技术领域,可对SEM电子束轰击靶材后产生的二次电子进行有效屏蔽,解决二次电子及其诱发的杂散光对X射线对成像质量造成不良影响的问题。本发明采用的技术方案是:用于扫描电子显微镜中的X射线靶组件,包括靶材和屏蔽盒,靶材放置于屏蔽盒内,屏蔽盒上设置至少一个入射口和至少一个出射口,屏蔽盒内放置一个或多个靶材,每个靶材均在屏蔽盒上对应设置入射口和出射口。扫描电子显微镜电子束由入射口射入,轰击靶材后产生的X射线从出射口射出,扫描电子显微镜电子束轰击靶材产生的二次电子由屏蔽盒进行有效屏蔽,避免二次电子及其诱发的杂散光对X射线成像质量的影响。 | ||
搜索关键词: | 靶材 屏蔽盒 扫描电子显微镜 二次电子 出射口 入射口 电子束轰击 有效屏蔽 杂散光 电子束 诱发 扫描电子显微镜技术 射出 射入 成像 轰击 | ||
【主权项】:
用于扫描电子显微镜中的X射线靶组件,其特征在于:包括靶材(1)和屏蔽盒(2),靶材(1)放置于屏蔽盒(2)内,屏蔽盒(2)上设置至少一个入射口(5)和至少一个出射口(4),并且扫描电子显微镜电子束由入射口(5)射入,轰击靶材(1)后产生的X射线可从出射口(4)射出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711260936.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。