[发明专利]阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法

摘要

本发明提供了一种阵列基板的制作方法及显示装置的制作方法，包括如下步骤在钝化层表面形成水溶性有机物层；在水溶性有机物层表面形成光阻层，进行黄光工程，得到包括多个间隔设置的光阻区域的光阻层图案和包括多个间隔设置的水溶性有机物区域的水溶性有机物层图案，所述水溶性有机物层区域的横截面小于光阻区域的底面横截面；对钝化层进行干蚀刻，使得钝化层图案的横截面与水溶性有机物层图案的横截面相同。本发明通过在钝化层的表面设置水溶性有机物层，使得剥离液能够溶解水溶性有机物层，进而剥除覆盖在水溶性有机物层之上的光阻和透明电极，从而提高了透明电极的剥离效率。

主权项

一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述阵列基板的制作方法包括如下步骤：步骤S10、提供一基板；步骤S20、在所述基板表面沉积钝化层；步骤S30、在所述钝化层表面形成水溶性有机物层，所述水溶性有机物为易溶于水的材料；步骤S40、在所述水溶性有机物层表面涂布光阻层，对所述光阻层进行曝光、显影，得到光阻层图案和水溶性有机物层图案，所述光阻层图案包括多个间隔设置的光阻区域，所述水溶性有机物层图案包括多个间隔设置的水溶性有机物区域，所述光阻区域设置在所述水溶性有机物区域上方，所述水溶性有机物区域的横截面小于所述光阻区域底面的横截面；步骤S50、对所述钝化层进行干蚀刻，使得所述钝化层图案的横截面与所述水溶性有机物层图案的横截面相同；步骤S60、在所述基板上方沉积透明电极，所述透明电极包括覆盖于所述基板表面的第一电极和覆盖于所述光阻层图案表面的第二电极；步骤S70、剥离所述水溶性有机物层图案与所述光阻层图案，除去所述第二电极，以使所述透明电极图案化。