[发明专利]一种适用于微纳器件制造的离子注入机

摘要

本发明公开了一种适用于微纳器件制造的离子注入机，包括依次相连的离子源、质量分析器、束流聚焦电透镜系统、束流静电扫描系统及载片腔室，还包括用于调节束斑形状和和束流大小的光阑组件、以及用于点注入的点注入掩膜板，所述光阑组件包括设于离子源和质量分析器之间的可调光阑、设于质量分析器和束流聚焦电透镜系统之间的限束光阑以及设于束流静电扫描系统和载片腔室之间的终端注入光阑，所述点注入掩膜板位于载片腔室内，所述终端注入光阑和所述点注入掩膜板上开设点注入微孔。本发明具有可简化工艺过程，能够实现微米级的低剂量、高精度注入等优点。

主权项

1.一种适用于微纳器件制造的离子注入机，包括依次相连的离子源(1)、质量分析器(2)、束流聚焦电透镜系统(3)、束流静电扫描系统(4)及载片腔室(5)，其特征在于：还包括用于调节束斑形状和和束流大小的光阑组件(6)、以及用于点注入的点注入掩膜板(7)，所述光阑组件(6)包括设于离子源(1)和质量分析器(2)之间的可调光阑(61)、设于质量分析器(2)和束流聚焦电透镜系统(3)之间的限束光阑(62)以及设于束流静电扫描系统(4)和载片腔室(5)之间的终端注入光阑(63)，所述点注入掩膜板(7)位于载片腔室(5)内，所述终端注入光阑(63)和所述点注入掩膜板(7)上开设点注入微孔(8)。