[发明专利]一种近距适形内照射支架及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201711270952.5 申请日: 2017-12-06
公开(公告)号: CN108042904A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 沈阳
主分类号: A61M36/12 分类号: A61M36/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100023 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种近距适形内照射支架及其制造方法。该适距适形内照射支架包括支架载体和局部加强放射性同位素高分子医用薄膜,支架载体为金属支架载体或复合金属支架载体,复合金属支架载体上覆盖有医用聚胺酯或医用硅橡胶,所述医用薄膜至少部分包覆于支架载体外周面,所述医用薄膜至少包括一层,所述医用薄膜包括第一薄膜层,第一薄膜层厚度均匀,位于支架载体外侧,第一薄膜层至少部分覆盖支架载体的外侧面积,所述医用薄膜层还包括第二薄膜层,第二薄膜层位于第一薄膜层外侧,第二薄膜层至少部分覆盖第一薄膜层外侧面积。该支架及其制造方法提供了一种能够适应不同形状,适应不同程度病情从而采用不同的照射剂量分布的内照射支架。
搜索关键词: 一种 近距 适形内 照射 支架 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种近距适形内照射支架,其特征在于:所述近距适形内照射支架包括支架载体和局部加强放射性同位素高分子医用薄膜,支架载体为金属支架载体或复合金属支架载体,复合金属支架载体上覆盖有医用聚胺酯或医用硅橡胶,所述医用薄膜至少部分包覆于支架载体外周面,所述医用薄膜至少包括一层,所述医用薄膜包括第一薄膜层,第一薄膜层厚度均匀,位于支架载体外侧,第一薄膜层至少部分覆盖支架载体的外侧面积,所述医用薄膜层还包括第二薄膜层,第二薄膜层位于第一薄膜层外侧,第二薄膜层至少部分覆盖第一薄膜层外侧面积。
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