[发明专利]一种集成电路模组结构及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201711278627.3 申请日: 2017-12-06
公开(公告)号: CN107845614A 公开(公告)日: 2018-03-27
发明(设计)人: 何军;其他发明人请求不公开姓名 申请(专利权)人: 安徽云塔电子科技有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/498;H01L21/56
代理公司: 北京品源专利代理有限公司11332 代理人: 孟金喆
地址: 230088 安徽省合肥市高新区*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明实施例提供了一种集成电路模组结构及其制作方法,该集成电路模组结构包括集成器件,在集成器件的第一面上设置有与部分功能电路连接的至少一个接口;塑封层,塑封层暴露出集成器件的第一面;重布线层,重布线层至少一层,每层重布线层包括至少一个金属图形,金属图形与接口对应连接,其中,金属图形自身形成剩余的功能电路,或者金属图形直接连接到剩余的功能电路;绝缘层,位于集成器件和塑封层靠近第一面的一侧,绝缘层包括至少一层,每层绝缘层覆盖一层重布线层,绝缘层暴露出金属图形的一部分以形成焊盘。本发明实施例中,避免了焊球的接入,实现了降低寄生电阻,提高集成器件的电容或电感的品质因数,优化集成器件性能的目的。
搜索关键词: 一种 集成电路 模组 结构 及其 制作方法
【主权项】:
一种集成电路模组结构,其特征在于,包括:集成器件,所述集成器件上设置有部分功能电路,所述集成器件包括相对的第一面和第二面,所述第一面上设置有与所述部分功能电路连接的至少一个接口;塑封层,所述塑封层暴露出所述集成器件的第一面;重布线层,所述重布线层至少一层,每层所述重布线层包括至少一个金属图形,所述金属图形与所述接口对应连接,其中,所述金属图形自身形成剩余的功能电路,或者所述金属图形直接连接到剩余的功能电路;绝缘层,位于所述集成器件和所述塑封层靠近所述第一面的一侧,所述绝缘层包括至少一层,每层所述绝缘层覆盖一层所述重布线层,所述绝缘层暴露出所述金属图形的一部分以形成焊盘。
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