[发明专利]一种含锡层状氧化物材料及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种含锡层状氧化物材料及其制备方法和应用，所述材料的化学通式为：Na_aNi_bSn_cM_dO_2+β；M为对过渡金属位进行掺杂取代的元素；所述a、b、c、d、β分别为对应元素所占的摩尔百分比；其中a、b、c、d、β之间的关系满足b+c+d＝1，且a+2b+4c+md＝2(2+β)或a+3b+4c+md＝2(2+β)；其中0.6≤a≤1；0aNi_bSn_cM_dO_2+β中，4+价的Sn离子和2+价的Ni离子半径相同，在过渡金属层间倾向于无序排布，所述含锡层状氧化物材料的晶体结构为O₃相，空间群为

主权项

1.一种含锡层状氧化物材料，其特征在于，所述含锡层状氧化物材料的化学通式为：Na_aNi_bSn_cM_dO_2+β；其中，M为对过渡金属位进行掺杂取代的元素，具体为Li⁺，Mg²⁺,Mn²⁺,Zn²⁺,Co²⁺,Ca²⁺,Ba²⁺,Sr²⁺,Mn³⁺,Al³⁺,B³⁺,Cr³⁺,Ni³⁺,Co³⁺,V³⁺,Zr⁴⁺，Ti⁴⁺,Mn⁴⁺，Sn⁴⁺,V⁴⁺,Mo⁴⁺,Mo⁵⁺，Ru⁴⁺，Nb⁵⁺,Si⁴⁺,Sb⁵⁺,Nb⁵⁺,Mo⁶⁺，Te⁶⁺中的一种或多种；所述a，b，c，d,β分别为对应元素所占的摩尔百分比；其中a，b，c，d,β之间的关系满足b+c+d＝1，且a+2b+4c+md＝2(2+β)或a+3b+4c+md＝2(2+β)；其中0.8≤a≤1；0<b≤0.3；0<c≤0.5；0<d≤0.5；‑0.02≤β≤0.02；m为所述M的化合价态；所述Na_aNi_bSn_cM_dO_2+β中，4+价的Sn离子和2+价的N i离子半径相同，在过渡金属层间倾向于无序排布，所述含锡层状氧化物材料的晶体结构为O₃相，空间群为