[发明专利]匀流件和工艺腔室有效
| 申请号： | 201711284928.7 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN109898050B | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 李新颖 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;姜春咸 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种匀流件和工艺腔室。所述匀流件包括本体，所述本体沿进气方向依次设置有至少两级匀流腔，且至少两级所述匀流腔的容积依次增大；相邻两级所述匀流腔之间相互连通，最后一级所述匀流腔用于与工艺腔室连通，以将经过至少两级匀流腔匀流后的工艺气体引入至所述工艺腔室中。本发明的匀流件，至少两级匀流腔的容积依次增大，可以使得工艺气体受到压力变化的作用膨胀、扩散。因此，可以改善工艺气体在匀流件内的分布，从而可以使得工艺气体在工艺腔室内分布更加均匀，进而可以提高工艺腔室中晶片的加工良率，降低制作成本，提高经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 匀流件 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种匀流件，其特征在于，包括本体；所述本体沿进气方向依次设置有至少两级匀流腔，且至少两级所述匀流腔的容积依次增大；相邻两级所述匀流腔之间相互连通，最后一级所述匀流腔用于与工艺腔室连通，以将经过至少两级所述匀流腔匀流后的工艺气体引入至所述工艺腔室中。
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