[发明专利]光处理装置和基板处理装置

摘要

本发明提供光处理装置和基板处理装置。提供一种在向晶圆的表面照射光而进行处理时、抑制生产率的降低而向晶圆进行稳定的光照射的技术。在使输入到成批曝光装置(3)内的晶圆(W)从输入输出口(34)侧朝向进行里侧的对位的待机位置(B)移动时，使作为光的照射口的狭缝(43)关闭。接下来，在使晶圆从待机位置向交接位置(A)移动时将开闭器(45)打开而向晶圆照射光。因而，在不以曝光为目的而使晶圆在LED光源组(400)的下方经过时，不对晶圆进行曝光，并且，保持使LED光源组发光的状态而使其不断开。因此，将LED光源组从断开切换成连通时的光强度的过度的偏离被抑制，因此，光强度稳定。

主权项

1.一种光处理装置，其特征在于，该光处理装置包括：壳体，其形成进行基板的输入输出的输入输出口；载置台，其设置于所述壳体内，并用于载置基板；光照射单元，其设置于所述载置台的上方，该光照射单元使光源部发光而形成在比基板的左右方向的宽度宽的区域内延伸的带状的照射区域；移动机构，其使所述载置台和光照射单元沿着前后方向彼此相对地移动；光路变更部，其用于使从所述光照射单元照射的光偏离基板的相对的移动区域；以及控制部，其输出控制信号，以便在所述基板不以由光的照射进行的处理为目的而在光照射单元的下方侧相对地移动时，在使所述光源部发光了的状态下，利用所述光路变更部在基板的表面不形成照射区域。