[发明专利]极紫外光光刻系统在审
| 申请号： | 201711307411.5 | 申请日： | 2017-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN108227399A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 简上杰;郑杰夫;石世昌;巫昆晋;刘冠亨;钟仁阳;陈立锐;郑博中 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 冯志云;张福根 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种极紫外光光刻系统，包括配置以收集和反射极紫外光放射线的收集器、与收集器整合的盖体、连接盖体且配置以接收来自收集器的碎屑蒸气的第一排气线路、连接第一排气线路且配置以补集碎屑蒸气的碎屑补集器、以及连接碎屑补集器的第二排气线路。 | ||
| 搜索关键词： | 碎屑 排气线路 收集器 补集 光刻系统 极紫外光 配置 连接盖体 紫外光 反射极 放射线 盖体 整合 | ||
【主权项】：
1.一种极紫外光光刻系统，包括：一收集器，配置以收集和反射极紫外光放射线；一盖体，与该收集器整合；一第一排气线路，连接该盖体，且配置以接收来自收集器的碎屑蒸气；一碎屑补集器，连接该第一排气线路，且配置以补集前述碎屑蒸气；以及一第二排气线路，连接该碎屑补集器。
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