[发明专利]一种二维微间距高密度阵列准直器及制备方法在审

专利信息
申请号: 201711318182.7 申请日: 2017-12-12
公开(公告)号: CN107894667A 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 马雨虹;杨睿;袁志林;宋丽丹 申请(专利权)人: 武汉光迅科技股份有限公司
主分类号: G02B27/30 分类号: G02B27/30;G02B6/32;G02B6/34
代理公司: 北京天奇智新知识产权代理有限公司11340 代理人: 刘黎明
地址: 430205 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种准直器及制备方法,属于光通信技术领域,具体是涉及一种基于全反棱镜的二维阵列准直器及制备方法。本发明将各层光纤阵列相对各层透镜阵列调试焦距一致性后摞叠粘接形成光纤阵列整体,再将各层透镜阵列相对各层光纤阵列调试线度一致性指标,并独立封装于透镜阵列固定框架上形成光纤阵列前体。然后将一个一维标准阵列准直器相对阵列准直器前体中间层调试线度及中心对齐并移动所需间隔后固定,全反棱镜相对该标准阵列准直器调试线度及中心对齐后封装固定于光纤阵列前体出射端,以此形成具有极高间隔密集度的二维准直器阵列。因此,本发明具有如下优点原材料成本较低,调试封装工艺易于实现,可实现极高集成度的二维准直器阵列(最小间距125x250mm2),具有准直平行度高、光斑一致性高、插损低、结构稳定等特点。
搜索关键词: 一种 二维 间距 高密度 阵列 准直器 制备 方法
【主权项】:
一种二维微间距高密度阵列准直器,其特征在于,包括:光纤阵列(105A~105F),底板为1×N的V型槽结构,各光纤阵列(105A~105F)调试焦距一致性后依次叠压封装形成二维光纤阵列整体;透镜阵列固定框架(102),其内面设置若干个与光纤阵列(105A~105F)位于同一线度且中心对齐的透镜阵列(101A~101F),其外面设置若干个与标准阵列准直器(803)同一线度及中心对齐的全反棱镜条(801A、801B、801C、801D、801E)。
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