[发明专利]光栅制作方法有效
| 申请号： | 201711323285.2 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108107497B | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 郑君雄 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京恒泰铭睿知识产权代理有限公司 11642 | 代理人： | 张静 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光栅制作方法，所述光栅制作方法包括：在基底表面依次形成第一光刻胶和第二光刻胶，其中所述第二光刻胶覆盖所述第一光刻胶，且其最低显开能量小于所述第一光刻胶；采用第一掩膜板对所述第二光刻胶进行第一次曝光处理，其中所述第二光刻胶在第一掩膜区域形成第一光刻胶图形；采用第二掩膜板对所述第二光刻胶进行第二次曝光处理，其中所述第二掩膜板至少部分覆盖所述第一曝光区域，且所述第一光刻胶在第二曝光区域形成第二光刻胶图形；对所述第一光刻胶和所述第二光刻胶进行显影处理，形成具有第一光刻胶图形和第二光刻胶图形的光刻胶台阶结构。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种光栅制作方法，其特征在于，包括：在基底表面依次形成第一光刻胶和第二光刻胶，其中所述第二光刻胶覆盖所述第一光刻胶，且其最低显开能量小于所述第一光刻胶；采用第一掩膜板对所述第二光刻胶进行第一次曝光处理，其中所述第二光刻胶在第一掩膜区域形成第一光刻胶图形；采用第二掩膜板对所述第二光刻胶进行第二次曝光处理，其中所述第二掩膜板至少部分覆盖所述第一曝光区域，且所述第一光刻胶在第二曝光区域形成第二光刻胶图形；对所述第一光刻胶和所述第二光刻胶进行显影处理，形成具有第一光刻胶图形和第二光刻胶图形的光刻胶台阶结构。
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