[发明专利]静电卡盘装置和静电吸附方法有效
| 申请号： | 201711326311.7 | 申请日： | 2017-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN108242421B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 松崎荣 | 申请（专利权）人： | 株式会社迪思科 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 于靖帅;乔婉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供静电卡盘装置和静电吸附方法，在大气压环境下也能够对半导体或绝缘体等被保持物进行静电吸附。一种静电卡盘装置，器在大气压环境下对被保持物进行静电吸附，其中，该静电卡盘装置具有：静电卡盘工作台，其具有电极和保持面；以及离子化空气提供单元，其对保持在该保持面上的该被保持物的露出面提供离子化空气，该电极具有在被保持物的静电吸附时被提供电荷的功能，该离子化空气提供单元具有如下的功能：对该被保持物的露出面提供电荷的极性与提供给该电极的电荷的极性相反的离子，来维持该被保持物的该露出面侧的电荷。可以在该被保持物的一个面上设置保护部件，也可以将该被保持物隔着该保护部件静电吸附在该保持面上。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 卡盘 装置 吸附 方法 | ||
【主权项】：
1.一种静电卡盘装置，其在大气压环境下对被保持物进行静电吸附，其特征在于，该静电卡盘装置具有：静电卡盘工作台，其具有电极和保持面；以及离子化空气提供单元，其对该保持面上所保持的该被保持物的露出面提供离子化空气，该电极具有在被保持物的静电吸附时被提供电荷的功能，该离子化空气提供单元具有如下的功能：对该被保持物的露出面提供电荷的极性与提供给该电极的电荷的极性相反的离子，来维持该被保持物的该露出面侧的电荷。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
