[发明专利]等离子体装置

摘要

本发明提供一种等离子体装置，在对工件进行等离子体处理的等离子体装置中，抑制处理对象物的变形。等离子体装置具备容器，该容器具有相向配置的第一模及第二模，将工件密封在关闭的第一模及第二模的内部。工件具有：处理对象物，具有处理对象部分和处理对象部分的外周的非处理对象部分；及掩模部件，覆盖非处理对象部分。第一模具有：相向平面部，与工件的外周表面相向配置；第一凹陷部，与处理对象部分相向配置并产生等离子体；及第二凹陷部，在相向平面部与第一凹陷部之间与非处理对象部分相向配置并产生等离子体。第二凹陷部的深度设定为与第一凹陷部的深度不同的值。

主权项

1.一种等离子体装置，对工件进行等离子体处理，所述等离子体装置具备容器，该容器具有相向配置的第一模及第二模，在由所述第一模及所述第二模形成的密闭空间的内部配置所述工件，所述工件具有：处理对象物，具有处理对象部分和沿与处理对象物垂直的方向观察时位于比所述处理对象部分的一部分靠所述处理对象物的外周侧的非处理对象部分；及掩模部件，覆盖所述非处理对象部分，所述第一模具有：第一凹陷部，与所述处理对象部分相向配置并产生等离子体；第二凹陷部，与覆盖所述非处理对象部分的所述掩模部件的至少一部分相向配置并产生等离子体；及相向平面部，以包围所述第一凹陷部及所述第二凹陷部的方式配置，并配置在比所述第一凹陷部及所述第二凹陷部接近所述第二模的位置，所述第二凹陷部的深度设定为与所述第一凹陷部的深度不同的值。