[发明专利]一种银纳米线导电膜的刻蚀液及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201711330168.9 申请日: 2017-12-13
公开(公告)号: CN108048842A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 司荣美;潘中海;刘彩风 申请(专利权)人: 天津宝兴威科技股份有限公司
主分类号: C23F1/30 分类号: C23F1/30
代理公司: 天津市新天方有限责任专利代理事务所 12104 代理人: 张强
地址: 301800 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明是一种银纳米线导电膜的刻蚀液及其使用方法,所述刻蚀液组分及质量百分比如下:醋酸:10~30%;氨水:5~10%;无机金属盐:10~20%;过氧化氢:6~16%;水溶性聚合物:3~15%;二氧化硅:4%;羧甲基纤维素:3%;乙二醇:2~17%;去离子水:10~30%。使用本发明制备的银纳米线导电膜具有成膜表面导电性能稳定,电阻率低,透光率高,附着力强的特点,本发明的制备工艺过程简单成熟,设备简单,操作方便,成本低廉,便于推广应用。此外,使用本发明制备的银纳米线导电膜具有化学稳定性良好,防腐性能优异的特性,不含强酸或强碱,环境污染小,可用于电磁屏蔽及电子电路等领域,具有广泛应用价值。
搜索关键词: 一种 纳米 导电 刻蚀 及其 使用方法
【主权项】:
1.一种银纳米线导电膜的刻蚀液,其特征在于,所述刻蚀液组分及质量百分比如下:醋酸:10~30%;氨水:5~10%;无机金属盐:10~20%;过氧化氢:6~16%;水溶性聚合物:3~15%;二氧化硅:4%;羧甲基纤维素:3%;乙二醇:2~17%;去离子水:10~30%。
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