[发明专利]集成电路紫外负性光刻胶的生产装置在审
申请号: | 201711341192.2 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN108241254A | 公开(公告)日: | 2018-07-03 |
发明(设计)人: | 廖如佴 | 申请(专利权)人: | 成都斯伯里科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/008 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610041 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 集成电路紫外负性光刻胶的生产装置,主要包括:溶胶釜(D101)、环化釜(D102)、冷冻室(L101)、调胶釜(D103)、过滤机(L102)、百级超净间(L103),其中,环化釜(D102)分别与溶胶釜(D101)、冷冻室(L101)相连接,过滤机(L102)分别与调胶釜(D103)、百级超净间(L103)相连接,其中,溶胶釜(D101)公称容积420‑450L。 | ||
搜索关键词: | 溶胶釜 冷冻室 紫外负性光刻胶 生产装置 过滤机 调胶 环化 集成电路 | ||
【主权项】:
1.集成电路紫外负性光刻胶的生产装置,其特征在于,主要包括:溶胶釜(D101)、环化釜(D102)、冷冻室(L101)、调胶釜(D103)、过滤机(L102)、百级超净间(L103),其中,环化釜(D102)分别与溶胶釜(D101)、冷冻室(L101)相连接,过滤机(L102)分别与调胶釜(D103)、百级超净间(L103)相连接,其中,溶胶釜(D101)公称容积420‑450L。
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