[发明专利]涡轮系统、用于涡轮系统的排气框架及其支柱有效
申请号: | 201711343590.8 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN108204255B | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | P.M.贾库布察克;W.德罗斯兹克;R.贾米奥尔科夫斯基;J.普托夫斯基 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | F01D25/30 | 分类号: | F01D25/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周心志;李强 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了涡轮系统、用于涡轮系统的排气框架及其支柱。所述支柱可以包括:主体,其包括前边缘和后边缘;至少第一隙缝,其穿过所述主体形成并且在所述前边缘与所述后边缘之间径向延伸;第一区段,其形成于所述前边缘与所述隙缝之间;以及第二区段,其形成于所述后边缘与所述隙缝之间。所述第二区段可以被配置成独立于所述第一区段移动。所述第一区段和所述第二区段的所述独立移动可以允许所述排气框架的所述支柱分配并管理所述排气框架和/或所述支柱在燃气涡轮系统的操作期间所经受的负载和/或应力。 | ||
搜索关键词: | 涡轮 系统 用于 排气 框架 及其 支柱 | ||
【主权项】:
1.一种用于涡轮系统的排气框架支柱,所述支柱包括:主体,其包括前边缘和后边缘;穿过所述主体形成的第一隙缝,所述第一隙缝在所述前边缘与所述后边缘之间径向延伸;第一区段,其形成于所述前边缘与所述第一隙缝之间;以及第二区段,其形成于所述后边缘与所述第一隙缝之间,所述第二区段被配置成独立于所述第一区段移动。
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