[发明专利]半导体芯片及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201711343927.5 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN108133921A 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 巴利生;林河北;凌浩;谭丽娟 申请(专利权)人: 深圳市金誉半导体有限公司
主分类号: H01L23/482 分类号: H01L23/482;H01L23/485;H01L23/492;H01L23/495
代理公司: 深圳市兰锋知识产权代理事务所(普通合伙) 44419 代理人: 曹明兰
地址: 518000 广东省深圳市龙华新区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种半导体芯片的制作方法,包括:提供半导体衬底;在所述半导体衬底制作芯片内部电路,其中所述芯片内部电路包括金属走线层;在所述芯片内部电路表面形成绝缘介质层;在所述绝缘层表面形成压焊金属层,所述压焊金属层包括多个压焊块,且至少部分压焊块与所述金属走线层相交叠。本发明还提供一种采用上述方法制作而成的半导体芯片。本发明提供的半导体芯片及其制作方法可以减小半导体芯片面积,降低半导体芯片制作成本。
搜索关键词: 半导体芯片 芯片内部电路 制作 金属走线层 金属层 压焊块 衬底 压焊 半导体 半导体芯片制作 绝缘层表面 绝缘介质层 表面形成 减小 相交
【主权项】:
一种半导体芯片的制作方法,其特征在于,包括:提供半导体衬底;在所述半导体衬底制作芯片内部电路,其中所述芯片内部电路包括金属走线层;在所述芯片内部电路表面形成绝缘介质层;在所述绝缘层表面形成压焊金属层,所述压焊金属层包括多个压焊块,且至少部分压焊块与所述金属走线层相交叠。
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