[发明专利]阵列基板及其制作方法、反射式液晶显示面板有效

专利信息
申请号: 201711344000.3 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN107861296B 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 李祥 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/1335
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种阵列基板及其制作方法,以及一种反射式液晶显示面板。通过所述紫外光照射或者热烘烤配向剂层形成配向层时,所述配向剂会反应形成聚合物,使得所述配向层包括聚合物。且所述聚合物在配向层内形成凹凸不平的层结构,所述层结构位于所述配向层与所述反射层贴合的表面。即在形成用于配向的配向层的同时,形成所述凹凸不平的层结构,从而能够实现对外界光线良好的漫反射效果,相对于现有技术来说,不需要增加所述阵列基板的制程,减少制造成本和时间。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 反射 液晶显示 面板
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,包括衬底基板、依次层叠于所述衬底基板上的反射层及配向层,所述配向层的一个表面与所述反射层的一个表面贴合;所述配向层包括聚合物,所述聚合物在配向层内形成凹凸不平的层结构,所述层结构位于所述配向层与所述反射层贴合的表面。
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