[发明专利]一种间苯二亚甲基二异氰酸酯的光气脱除方法有效
申请号: | 201711346884.6 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108003060B | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | 毕荣山;谭心舜;郑世清;曾民成;葛纪军 | 申请(专利权)人: | 青岛科技大学;青岛银科恒远化工过程信息技术有限公司 |
主分类号: | C07C263/10 | 分类号: | C07C263/10;C07C263/20;C07C265/14 |
代理公司: | 山东重诺律师事务所 37228 | 代理人: | 冷奎亨 |
地址: | 266000 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种间苯二亚甲基二异氰酸酯的光气脱除方法,该方法包括:含有高沸点溶剂的间苯二亚甲基二异氰酸酯(XDI)光化液,进入负压操作系统的光气脱除塔,通过调节合适的塔釜温度脱除釜液光气,再调节合适的塔顶冷凝器温度,将塔顶溶剂和光气等混合气体同时冷凝下来,尽量减少或避免光气进入真空系统,塔顶冷凝液作为吸收剂用于光气回收系统。此方法适用于使用高沸点溶剂且存在热敏性问题的间苯二亚甲基二异氰酸酯(XDI)或同类异氰酸酯的光气脱除,此方法光气脱除能力强,降低了真空系统的负荷,减少了深冷媒介的消耗,省去了专门脱除部分溶剂用于光气回收系统的过程。 | ||
搜索关键词: | 一种 间苯二亚 甲基 氰酸 光气 脱除 方法 | ||
【主权项】:
1.一种间苯二亚甲基二异氰酸酯的光气脱除方法,其特征在于,包括如下步骤:间苯二亚甲基二异氰酸酯的制备过程中,胺与过量光气在含有惰性溶剂的反应器中进行液相光气化反应,光化后产生的HCL气体和过量的光气通入光气回收系统;光化反应后的物料为光化液,将光化液由泵连续通入光气脱除塔中进行精馏,光气脱除塔选择负压操作;从光气脱除塔塔顶出来的溶剂和光气的混合气体进入塔顶冷凝器,塔顶一级冷凝器将溶剂和光气混合气体同时冷凝下来;塔顶二级冷凝器气相出口与真空系统连通;塔顶冷凝液为含有光气的溶剂液,塔顶冷凝液部分回流至光气脱除塔内,其余塔顶冷凝液回流至光气回收系统,吸收光气后返回光化反应器;塔釜脱除光气后的酯溶液送入产品分离系统。
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