[发明专利]N型硅片硼扩散方法、晶体硅太阳能电池及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201711348116.4 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108054088A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 王钊;杨洁;郑霈霆;张昕宇;金浩;刘洪伟 申请(专利权)人: 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
主分类号: H01L21/223 分类号: H01L21/223;H01L31/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李婷婷;王宝筠
地址: 314416 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请提供一种N型硅片硼扩散方法、晶体硅太阳能电池及其制作方法,采用两次硼扩散,且第二次硼扩散的掺杂浓度大于第一次硼扩散的掺杂浓度,也即采用第一次轻扩,第二次重扩的方式形成硼扩散。由于采用第一次轻扩,结深较深,硼的掺杂浓度较低,欧姆接触不良,但能够降低扩散层复合,第二次重扩,结深较浅,硼的掺杂浓度较高,保证硅片表面与金属电极接触形成良好的欧姆接触。也即本发明提供的N型硅片硼扩散方法在降低扩散复合的情况下保证电池接触电阻Rs良好。
搜索关键词: 硅片 扩散 方法 晶体 太阳能电池 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种N型硅片的硼扩散方法,其特征在于,包括:将制绒清洗后的硅片放入扩散炉管内,升温至第一温度;进行第一次沉积,在所述硅片表面形成第一硼扩散;升温至第二温度,并进行推结,所述第二温度高于所述第一温度;进行第二次沉积,在所述硅片表面形成第二硼扩散;退火降温,并将所述硅片从所述扩散炉管内取出;其中,所述硅片表面上,所述第二硼扩散的掺杂浓度大于所述第一硼扩散的掺杂浓度,且所述第二硼扩散的深度小于所述第一硼扩散的深度。
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