[发明专利]一种QLED器件及其制备方法在审
申请号: | 201711349852.1 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN109935706A | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 王宇;曹蔚然;李龙基 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种QLED器件及其制备方法,所述QLED器件包括层叠设置的阴极、量子点发光层和阳极,其中,还包括设置于量子点发光层与阳极之间的界面层,所述界面层的材料为碳量子点。本发明所制备的反型QLED器件,通过在HTL层和QD层之间设置一界面层,该界面层可以防止在全溶液法制备反型QLED器件的HTL或HIL的过程中对QD层造成的溶解冲刷影响,从而提高了器件的效率。 | ||
搜索关键词: | 界面层 量子点 制备 阳极 发光层 反型 阴极 溶液法制备 层叠设置 冲刷 溶解 | ||
【主权项】:
1.一种QLED器件,包括层叠设置的阴极、量子点发光层和阳极,其特征在于,还包括设置于量子点发光层与阳极之间的界面层,所述界面层的材料为碳量子点。
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