[发明专利]基于BJT的集成电路抗静电转接板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711352302.5 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108321146A 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 李妤晨 申请(专利权)人: 西安科技大学
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60;H01L21/50
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 李斌
地址: 710054 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种基于BJT的集成电路抗静电转接板及其制备方法,该制备方法包括:(a)选取硅基衬底;(b)在所述硅基衬底中第一指定区域与第二指定区域分别制作TSV孔与隔离沟槽;(c)分别对所述隔离沟槽与所述TSV孔进行填充;(d)在所述硅基衬底中第三指定区域制作BJT;(e)去除所述硅基衬底底部部分材料,以在所述硅基衬底底部露出所述TSV孔、所述隔离沟槽及所述BJT;(f)在所述TSV孔与所述BJT表面制作金属互连线以使所述TSV孔与所述BJT相连接。本发明提供的基于BJT的集成电路抗静电转接板,通过在TSV转接板上加工BJT作为ESD防护器件,增强了层叠封装芯片的抗静电能力。
搜索关键词: 硅基衬 隔离沟槽 抗静电 转接板 制备 集成电路 制作 金属互连线 抗静电能力 层叠封装 去除 填充 芯片 加工
【主权项】:
1.一种基于BJT的集成电路抗静电转接板的制备方法,其特征在于,包括:(a)选取硅基衬底;(b)在所述硅基衬底中第一指定区域与第二指定区域分别制作TSV孔与隔离沟槽;(c)分别对所述隔离沟槽与所述TSV孔进行填充;(d)在所述硅基衬底中第三指定区域制作BJT;(e)去除所述硅基衬底底部部分材料,以在所述硅基衬底底部露出所述TSV孔、所述隔离沟槽及所述BJT;(f)在所述TSV孔与所述BJT表面制作金属互连线以使所述TSV孔与所述BJT相连接。
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