[发明专利]多弧离子镀膜装置在审
申请号: | 201711353637.9 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN109930117A | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 孙桂红;祝海生;陈立;凌云;黄夏;黄国兴 | 申请(专利权)人: | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 冯子玲 |
地址: | 411100 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了多弧离子镀膜装置,包括阴极和引弧电极,所述阴极的一端与引弧电极的一端绝缘连接,所述阴极为一内部设有磁棒和靶背管的靶材,所述磁棒和靶背管相邻设置,所述磁棒为一嵌有一磁性组件的绝缘棒,所述引弧电极通过一电磁阀控制其与阴极不相连的一端与阴极表面接触和分离,所述阴极和引弧电极设于真空室阳极箱体中。与现有技术相比,本发明提供的多弧离子镀膜装置在阴极中加装了磁性组件,可使金属离化率更高,镀膜刻蚀均匀,基片表面膜层均一性更佳,因此其应用前景十分广阔。 | ||
搜索关键词: | 阴极 引弧电极 多弧离子镀膜 磁棒 磁性组件 背管 电磁阀控制 真空室阳极 基片表面 绝缘连接 相邻设置 阴极表面 绝缘棒 均一性 靶材 镀膜 刻蚀 离化 膜层 嵌有 金属 应用 | ||
【主权项】:
1.多弧离子镀膜装置,其特征在于:包括阴极(1)和引弧电极(2),所述阴极(1)的一端与引弧电极(2)的一端绝缘连接,所述阴极(1)为一内部设有磁棒(11)和靶背管的靶材,所述磁棒(11)和靶背管相邻设置,所述磁棒(11)为一嵌有一磁性组件的绝缘棒,所述引弧电极(2)通过一电磁阀控制其与阴极(1)不相连的一端与阴极(1)表面接触和分离,所述阴极(1)和引弧电极(2)设于真空室阳极箱体中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湘潭宏大真空技术股份有限公司,未经湘潭宏大真空技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711353637.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:光学多弧离子镀膜机
- 下一篇:用于物理气相沉积腔室的双极准直器
- 同类专利
- 专利分类