[发明专利]一种QLED器件的后处理方法有效

专利信息
申请号: 201711353907.6 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN109935738B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 杨一行;曹蔚然;钱磊;向超宇 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种QLED器件的后处理方法,包括以下步骤:提供QLED器件,所述QLED器件包括衬底,设置在所述衬底上的量子点发光二极管,所述量子点发光二极管被封装树脂封装,所述封装树脂中含有活性成分,所述活性成分为非饱和羧酸和/或饱和羧酸;对所述QLED器件进行加热处理;对所述QLED器件进行加热处理后,对所述QLED器件进行抽真空处理。本发明通过加热和抽真空的制备步骤,可以在实现器件有益效果之后充分去除残留的活性成分,保证器件后续不受到活性成分的持续影响,从而在实现高效率的同时也保障了器件的寿命。
搜索关键词: 一种 qled 器件 处理 方法
【主权项】:
1.一种QLED器件的后处理方法,其特征在于,包括以下步骤:提供QLED器件,所述QLED器件包括衬底,设置在所述衬底上的量子点发光部件,所述量子点发光部件被封装树脂封装,所述封装树脂中含有活性成分,所述活性成分为非饱和羧酸和/或饱和羧酸;对所述QLED器件进行加热处理;对所述QLED器件进行加热处理后,对所述QLED器件进行抽真空处理。
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