[发明专利]一种改善GaN外延片性质并增强GaN基LED发光性能的方法在审
申请号: | 201711354577.2 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108054247A | 公开(公告)日: | 2018-05-18 |
发明(设计)人: | 张勇 | 申请(专利权)人: | 佛山东燊金属制品有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 佛山帮专知识产权代理事务所(普通合伙) 44387 | 代理人: | 颜春艳 |
地址: | 528251 广东省佛山市南海区桂城街道平胜*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明提出了一种改善GaN外延片性质并增强GaN基LED发光性能的方法,GaN外延片的厚度为450μm,其最上层为380nm厚掺Mg的p型GaN层;进行激光辐照实验前,将其剪裁成边长为10mm的正方形,之后将样品分别依次浸入乙醇、丙酮和去离子水中超声清洗约5min;然后采用LP 305i F型准分子激光器在空气中对Ga N样品进行激光辐照,激光波长为248nm,重复频率为3Hz和10Hz,激光能量密度为300~800m J/cm。激光辐照与在N |
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搜索关键词: | 一种 改善 gan 外延 性质 增强 led 发光 性能 方法 | ||
【主权项】:
1.一种改善GaN外延片性质并增强GaN基LED发光性能的方法,其特征在于,GaN外延片的厚度为450μm,其最上层为380nm厚掺Mg的p型GaN层;首先,进行激光辐照实验前,将其剪裁成边长为10mm的正方形,之后将样品分别依次浸入乙醇、丙酮和去离子水中超声清洗约5min;然后采用LP 305i F型准分子激光器在空气中对GaN样品进行激光辐照,激光波长为248nm,重复频率为3Hz和10Hz,激光能量密度为300~800m J/cm。
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