[发明专利]一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽有效
申请号: | 201711358693.1 | 申请日: | 2017-12-17 |
公开(公告)号: | CN107999153B | 公开(公告)日: | 2021-04-27 |
发明(设计)人: | 刘赵淼;李梦麒;张龙祥 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 沈波 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽,属于微流控芯片领域。该微通道过滤槽包括主体通道、贮液池和四级递减间距的多圆柱阵列结构。多圆柱单元结构依次设置于微通道工作入口前,所有物质需先通过四级递减间距多圆柱微通道垃圾阻挡槽方可进入微通道。由于圆柱单元结构间间距极小,所有能对微通道内流体造成影响的大于圆柱单元间距尺寸的固体垃圾均会被阻挡,如PDMS打孔残留物以及实验过程中产生的碎屑。该通道结构能显著降低打孔残渣、实验垃圾等对流体在微流控通道中正常流动的干扰。 | ||
搜索关键词: | 一种 递减 间距 圆柱 阵列 结构 通道 过滤 | ||
【主权项】:
1.一种四级递减间距多圆柱阵列结构微通道过滤槽,其特征在于:该微通道过滤槽包括主体结构(1)、流体入口(2)、椭圆形贮液池(3)、第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)、第四级圆柱阵列结构(7)、微流控通道(8)和下底板(9);流体入口(2)、椭圆形贮液池(3)、微流控通道(8)为为主体结构(1)上的凹槽结构;第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)、第四级圆柱阵列结构(7)、微流控通道(8)均为主体结构(1)上的孔洞结构,且各结构为芯片工作时液体的流动区域;所述主体结构(1)和下底板(9)通过上下建合固定,下底板(9)置于主体结构(1)底部,以支撑芯片的主体结构并提供流动空间;流体入口(2)通过微通道与椭圆形贮液池(3)连接,椭圆形贮液池(3)与微流控通道(8)连接;第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)、第四级圆柱阵列结构(7)设置在椭圆形贮液池(3)内;第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)和第四级圆柱阵列结构(7)并排布置在椭圆形贮液池(3)内;第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)和第四级圆柱阵列结构(7)之间为错列布置;第一级圆柱阵列结构(4)、第二级圆柱阵列结构(5)、第三级圆柱阵列结构(6)和第四级圆柱阵列结构(7)的圆柱阵列尺寸逐渐由大到小渐变。
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