[发明专利]一种去除单晶硅棒表面机械损伤层的装置及方法有效
申请号: | 201711370683.X | 申请日: | 2017-12-18 |
公开(公告)号: | CN109930205B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 秦瑞锋;姜舰;鲁强;盖晶虎;崔彬;戴小林;吴志强 | 申请(专利权)人: | 有研半导体材料有限公司 |
主分类号: | C30B33/10 | 分类号: | C30B33/10;C30B29/06 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 刘秀青 |
地址: | 101300 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种去除单晶硅棒表面机械损伤层的装置及方法。该装置包括腐蚀槽和喷淋式清洗水管,其中,腐蚀槽分为三个相互隔绝、尺寸不同的长方体形腐蚀槽;每个腐蚀槽相对的两侧壁上分别设有螺孔,每个螺孔上穿设有螺杆,螺杆位于槽内的一端连接夹持块,单晶硅棒被夹持在两个带有卡槽的夹持块之间,通过旋转螺杆使夹持块夹紧单晶硅棒;螺杆位于槽外的一端通过连接杆连接旋转电机,旋转电机驱动螺杆带动单晶硅棒和夹持块旋转;在腐蚀槽的所述两侧壁的上沿分别设有喷淋式清洗水管,水管上设有调节水流量的开关,且有多个喷嘴均匀分布在水管上。本发明可以提高单晶硅棒腐蚀和清洗的均匀性,减少单晶硅棒表面的雪花状斑块,增加单晶硅棒表面光亮度。 | ||
搜索关键词: | 一种 去除 单晶硅 表面 机械 损伤 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种去除单晶硅棒表面机械损伤层的装置,其特征在于,该装置包括腐蚀槽和喷淋式清洗水管,其中,腐蚀槽分为三个相互隔绝、尺寸不同的长方体形腐蚀槽;每个腐蚀槽相对的两侧壁上分别设有螺孔,每个螺孔上穿设有螺杆,螺杆位于槽内的一端连接夹持块,单晶硅棒被夹持在两个带有卡槽的夹持块之间,通过旋转螺杆使夹持块夹紧单晶硅棒;螺杆位于槽外的一端通过连接杆连接旋转电机,旋转电机驱动螺杆带动单晶硅棒和夹持块旋转;在腐蚀槽的所述两侧壁的上沿分别设有喷淋式清洗水管,水管上设有调节水流量的开关,且有多个喷嘴均匀分布在水管上。
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