[发明专利]阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板在审
| 申请号： | 201711370713.7 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN107966865A | 公开（公告）日： | 2018-04-27 |
| 发明（设计）人： | 曹武 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G03F9/00 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人： | 郝传鑫,熊永强 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板的制作方法，通过对对位标记背向衬底基板的一面进行表面疏水处理，使得所述对位标记表面疏水，进而使得黑矩阵材料沉积于所述衬底基板上时，由于所述对位标记表面的疏水性能，从而使得所述黑矩阵材料不会沉积于所述对位标记上，或者沉积于所述对位标记上的所述黑矩阵材料层的厚度较其它位置的黑矩阵材料层的厚度较薄，进而避免所述黑矩阵材料层会遮挡所述对位标记，保证对位器对所述对位标记的清楚识别，进而保证所述黑矩阵的位置精度，提高所述液晶显示面板的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 制作方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：在衬底基板上形成对位标记；对所述对位标记背向所述衬底基板的一面进行表面疏水处理，使得所述对位标记背向所述衬底基板的表面疏水；在所述衬底基板上沉积黑矩阵材料层，使得所述黑矩阵材料层覆盖所述衬底基板，且所述黑矩阵材料层对应于所述对位标记的位置的厚度小于所述黑矩阵材料层其它位置的厚度；或者，所述黑矩阵材料层覆盖所述衬底基板除对应于所述对位标记的位置外的其它位置；图案化所述黑矩阵材料层形成黑矩阵。
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