[发明专利]一种抗反射高透明超疏水自洁膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201711371442.7 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108219169A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 张立志;职晶慧 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08J7/06;C08J7/00;C08G65/26;C08G59/50;C08L71/02;C08L63/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 何淑珍 |
| 地址： | 511458 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗反射高透明超疏水自洁膜及其制备方法。该制备方法将环氧基硅烷偶联剂加入到有机溶剂中，搅拌混合均匀后加入胺类固化剂和去离子水，搅拌后加入致孔剂，继续搅拌得到抗反射层溶液；将抗反射层溶液涂覆于经预处理后的基材表面，经加热处理后，冷却至室温，再浸泡于配制好的硅溶胶中，取出，烘干，得到所述抗反射高透明超疏水自洁膜。本发明方法制备的抗反射高透明超疏水自洁膜的透光率非常高，最高达98.5％；稳定性好，耐强酸强碱，承受3M胶带剥离40次后，依旧保持超疏水效果；制备的抗反射高透明超疏水自洁膜具有很好的工业应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 超疏水 高透明 抗反射 自洁膜 制备 抗反射层 环氧基硅烷偶联剂 预处理 胺类固化剂 耐强酸强碱 工业应用 基材表面 加热处理 去离子水 有机溶剂 硅溶胶 透光率 致孔剂 烘干 涂覆 配制 浸泡 冷却 剥离 取出 | ||
【主权项】：
1.一种抗反射高透明超疏水自洁膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)将环氧基硅氧烷偶联剂加入到有机溶剂中，搅拌混合均匀后，加入胺类固化剂和去离子水，搅拌20～50min，然后加入致孔剂，继续搅拌1～3h，得到抗反射层溶液；(2)将硅源加入到有机溶剂中，搅拌30～60min均匀分散，加入硅氧烷试剂、氨水和蒸馏水，继续搅拌120～130min混合均匀，老化，得到硅溶胶；(3)将步骤(1)制备的抗反射层溶液经涂膜仪涂覆于经预处理后的基材表面，经煅烧处理后，冷却至室温，再浸泡于步骤(2)制备的硅溶胶中，取出，烘干，得到所述抗反射高透明超疏水自洁膜。
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